Taller de temperatura y humedad constantes:
Humedad recomendada para la zona de recubrimiento: 40–60% HR;
Temperatura: 23±2℃.
Gestión del punto de rocío:
La temperatura del sustrato debe ser al menos 3℃ superior al punto de rocío ambiente para evitar la condensación.
Control del microambiente local:
Para las plantas que no pueden lograr una temperatura y humedad constantes, implemente un control local de temperatura y humedad en el cabezal de recubrimiento y en la entrada del horno.
Optimización del sistema de disolventes:
En condiciones de alta humedad: agregue solventes de secado rápido (por ejemplo, tolueno, heptano) para acelerar la volatilización.
Restablecimiento de parámetros de curado:
En condiciones de alta humedad: extienda el tiempo de curado entre un 10 y un 20 % y aumente la temperatura entre 5 y 10 ℃.
Secado del sustrato:
Deshumidifique el sustrato utilizando un rodillo calefactor de 50 a 80 °C antes de recubrir (especialmente para materiales porosos o a base de papel).
Pelicula de lanzamiento el recubrimiento is mucho más sensible a la humedad que los recubrimientos convencionales, por lo que el control de la humedad es fundamental para recubrimiento de liberación, debido a los principales puntos débiles:
① El catalizador de platino se somete a desactivación irreversible al entrar en contacto con el agua → fallo catastrófico del curado.
② La fuerza de liberación requiere una precisión extremadamente alta (dentro de ±10%) → fluctuaciones menores provocan el rechazo del lote.
Las soluciones deben estar orientadas a la prevención:
Construir una línea de defensa triple a través de Aislamiento ambiental, deshumidificación del sustrato y optimización de procesos, en lugar de confiar únicamente en la remediación de procesos.
